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Cu2WS4/NiTiO3新型異質(zhì)結(jié)構(gòu)的制備及其高效可見光光催化析氫和降解污染物性能
發(fā)布時(shí)間:2023-03-16    瀏覽量:2142

1. 文章信息

標(biāo)題:Fabrication of novel Cu2WS4/NiTiO3 heterostructures for efficient visible-light photocatalytic hydrogen evolution and pollutant degradation

中文標(biāo)題:Cu2WS4/NiTiO3新型異質(zhì)結(jié)構(gòu)的制備及其高效可見光光催化析氫和降解污染物性能

頁碼:  613 (194-206)  

DOI:  10.1016/j.jcis.2021.10.179               

2. 文章鏈接

https://doi.org/10.1016/j.jcis.2021.10.179

3. 期刊信息

期刊名:Journal of Colloid and Interface Science

ISSN:  0021-9797  

2022年影響因子:9.965

分區(qū)信息: 中科院一區(qū)Top;JCR分區(qū)(Q1) 

涉及研究方向: 化學(xué)研究的各個(gè)領(lǐng)域  

4. 作者信息:第一作者是  彭殿祥(吉林化工學(xué)院)。通訊作者為  石洪飛副教授、金朝輝教授、陳哲教授(吉林化工學(xué)院)。

5. 光催化設(shè)備型號(hào):北京中教金源光催化評(píng)價(jià)系統(tǒng)(CEL-SPH2N, CEAULIGHT, China)

近年來,設(shè)計(jì)和開發(fā)高效、耐用、可見光響應(yīng)的光催化材料用于光催化水分解制氫氣和降解環(huán)境污染物是最具挑戰(zhàn)性的任務(wù)之一。近日,吉林化工學(xué)院石洪飛課題組利用靜電紡絲技術(shù)/煅燒技術(shù)結(jié)合水熱法制備了一系列Cu2WS4/NiTiO3復(fù)合催化劑。光催化實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在可見光照射下(λ > 420 nm),Cu2WS4/NiTiO3復(fù)合催化劑具有優(yōu)異、持久的光催化水分解制氫氣及降解環(huán)境污染物活性。其中,0.50 Cu2WS4/NiTiO3樣品的產(chǎn)氫活性最高,為810 μmol·g-1·h-1,在420 nm處的表觀量子效率(AQE)為1.65%。


此外,該樣品表現(xiàn)出最佳的降解性能,對(duì)四環(huán)素(TC)、羅丹明B(RhB)和Cr(VI)的去除速率常數(shù)分別為0.030、0.413和0.028 min-1。該優(yōu)異催化活性歸因于其增強(qiáng)的可見光吸收、高比表面積和光生載流子的有效分離。自由基捕獲實(shí)驗(yàn)和電子自旋共振實(shí)驗(yàn)證實(shí),·O2-和h+在降解四環(huán)素/羅丹明B過程中起到關(guān)鍵作用。基于實(shí)驗(yàn)結(jié)果和能帶結(jié)構(gòu)分析,作者提出了“Type-II”型光催化反應(yīng)機(jī)理。


本文亮點(diǎn):

1、利用靜電紡絲技術(shù)/煅燒技術(shù)結(jié)合水熱法制備了Cu2WS4/NiTiO3復(fù)合催化劑,實(shí)現(xiàn)高效光催化制氫和降解多種污染物。

2、通過調(diào)控Cu2WS4的含量,0.50 Cu2WS4/NiTiO3具有最佳的催化活性,產(chǎn)氫量為810 μmol·g-1·h?1,420 nm處的AQE 為1.65 %。

3、我們?cè)敿?xì)研究了實(shí)驗(yàn)參數(shù)對(duì)TC降解效率的影響。根據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果和能帶結(jié)構(gòu)理論,我們提出光催化反應(yīng)機(jī)理。


作者通過簡(jiǎn)單的靜電紡絲/煅燒工藝制備了NiTiO3納米纖維,然后用方便的水熱法制備了Cu2WS4/NiTiO3復(fù)合材料。首先,將含有Ti(OC4H9)4、Ni(CH3COO)2和PVP的混合溶液進(jìn)行靜電紡絲制得TBT-Ni(CH3COO)2-PVP NFS,在800 ℃馬弗爐中處理5 h,除去PVP并生成NiTiO3。然后,將一定量的NiTiO3納米纖維與設(shè)計(jì)量的CuCl2·2H2O、Na2WO4·2H2O和CH3CSNH2在水溶液中混合均勻,加入50 mL內(nèi)襯聚四氟乙烯的高壓釜中,在160 ℃下加熱36 h,制得Cu2WS4/NiTiO3復(fù)合材料。


通過SEM和TEM可得到NiTiO3、Cu2WS4和0.50 Cu2WS4/NiTiO3材料的形貌和微觀結(jié)構(gòu)特征。在圖2a中,純NiTiO3表現(xiàn)出典型的一維納米纖維結(jié)構(gòu),具有粗糙和多孔的特征。如圖2b所示,Cu2WS4是二維正方形納米片,表面清晰光滑。圖2c顯示,0.50 Cu2WS4/NiTiO3保持了NiTiO3和Cu2WS4的部分形貌,兩個(gè)組分形成了緊密的接觸。然而,在水熱過程中,其形貌受到了一定程度的破壞。使用TEM圖像進(jìn)一步驗(yàn)證了所制備的復(fù)合材料的微觀結(jié)構(gòu)(圖2(d-f))。此外,0.50 Cu2WS4/NiTiO3的元素能譜圖證實(shí)了Ni、Ti、O、Cu、W和S元素的存在(圖2(g-l)),證明各元素在復(fù)合材料中的均勻分散以及NiTiO3和Cu2WS4的緊密結(jié)合,這有利于提高光生電子-空穴對(duì)的分離能力。

通過SEM和TEM可得到NiTiO3、Cu2WS4和0.50 Cu2WS4/NiTiO3材料的形貌和微觀結(jié)構(gòu)特征。在圖2a中,純NiTiO3表現(xiàn)出典型的一維納米纖維結(jié)構(gòu),具有粗糙和多孔的特征。如圖2b所示,Cu2WS4是二維正方形納米片,表面清晰光滑。圖2c顯示,0.50 Cu2WS4/NiTiO3保持了NiTiO3和Cu2WS4的部分形貌,兩個(gè)組分形成了緊密的接觸。然而,在水熱過程中,其形貌受到了一定程度的破壞。使用TEM圖像進(jìn)一步驗(yàn)證了所制備的復(fù)合材料的微觀結(jié)構(gòu)(圖2(d-f))。此外,0.50 Cu2WS4/NiTiO3的元素能譜圖證實(shí)了Ni、Ti、O、Cu、W和S元素的存在(圖2(g-l)),證明各元素在復(fù)合材料中的均勻分散以及NiTiO3和Cu2WS4的緊密結(jié)合,這有利于提高光生電子-空穴對(duì)的分離能力。


作者綜合考察了溶液pH值、催化劑用量、TC濃度等因素對(duì)TC降解效率的影響(圖4(b-d))。首先,考察了pH值(1-11)對(duì)0.50 Cu2WS4/NiTiO3光催化劑降解TC的影響(圖4b)。當(dāng)溶液pH從1增加到6時(shí),在1 h內(nèi)TC的去除率從63.4%增加到88.6%,而當(dāng)pH從6進(jìn)一步增加到11時(shí),相應(yīng)的降解率下降到52.4%。顯然,Cu2WS4/NiTiO3在中性或弱酸性條件下表現(xiàn)出優(yōu)異的性能。此外,圖4c給出了0.50 Cu2WS4/NiTiO3催化劑的不同用量對(duì)TC降解率的影響。隨著光催化劑用量從10 mg增加到40 mg,TC的降解率呈現(xiàn)先增加后降低的趨勢(shì)。圖4d顯示了0.50 Cu2WS4/NiTiO3樣品在不同TC濃度下的降解速率。

如圖5a所示,作者通過熒光發(fā)射光譜(PL)研究了所制備樣品中光生載流子的分離情況??梢悦黠@觀察到,所有制備的材料在610 nm附近都有相似的峰,Cu2WS4/NiTiO3材料的熒光強(qiáng)度比Cu2WS4和NiTiO3樣品的熒光強(qiáng)度低,說明Cu2WS4和NiTiO3的耦合極大程度阻礙了光生載流子的復(fù)合。值得注意的是,0.50 Cu2WS4/NiTiO3樣品的峰強(qiáng)度最低,說明其具有最強(qiáng)的光生電子-空穴對(duì)的分離能力,利于其催化性能的提高。作者系統(tǒng)地測(cè)試了不同樣品的光電流響應(yīng)(i-t)和電化學(xué)交流阻抗譜(EIS),來進(jìn)一步證明光生e-和h+的分離和遷移能力。上述數(shù)據(jù)表明,通過Cu2WS4與NiTiO3的耦合,能顯著提高光生載流子的分離效率,有利于催化劑性能的提高。作者采用線性掃描伏安法(LSV)研究了不同材料在光照射下的光催化析氫起始電位。如圖5d所示,這些數(shù)據(jù)證明,由于H+被快速還原為H2,所制備的催化劑可以降低析氫的過電位。總體而言,PL、i-t、EIS、LSV的研究結(jié)果驗(yàn)證了Cu2WS4和NiTiO3的結(jié)合提高了光生載流子的分離和轉(zhuǎn)移效率。

通過自由基捕獲實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了光催化降解TC的機(jī)理。本文采用三乙醇胺(TEOA)、異丙醇(IPA)和4-羥基TEMPO分別作為空穴、羥自由基和超氧自由基的猝滅劑,驗(yàn)證了降解過程中的主要反應(yīng)物種(圖6)。如圖6a和圖6b所示,加入IPA對(duì)0.50 Cu2WS4/NiTiO3的TC降解率基本不變,說明·OH不是關(guān)鍵活性物質(zhì)。而引入4-羥基TEMPO/TEOA后,TC的降解率明顯下降,說明·O2-和h+主要促進(jìn)了TC的降解。此外,利用ESR測(cè)試進(jìn)一步確定光催化過程中生成的活性物種。圖6c所示,黑暗下的·O2-實(shí)驗(yàn)沒有發(fā)現(xiàn)峰,而在可見光照射下,這些特征峰明顯分布在·O2-/DMPO化合物中,進(jìn)一步驗(yàn)證了·O2-的產(chǎn)生。圖6d所示,在黑暗中觀察到三個(gè)強(qiáng)度均勻(1:1:1)的TEMPO峰,這些峰在可見光照射下明顯下降,表明TEMPO-h+自旋加合物的形成。上述結(jié)果驗(yàn)證了h+和·O2-在TC降解過程中起著至關(guān)重要的作用。

根據(jù)以上分析和討論,我們提出了Cu2WS4/NiTiO3復(fù)合材料的可見光光催化產(chǎn)氫和降解TC/RhB機(jī)理(圖7)。圖7a說明了光催化析氫的機(jī)理,在可見光照射下(λ > 420 nm),Cu2WS4和NiTiO3均被光激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對(duì)?;谀軒ЫY(jié)構(gòu)理論,Cu2WS4的CB上光生電子可以快速轉(zhuǎn)移到NiTiO3的CB上,并與H2O/H+結(jié)合生成H2。同時(shí),NiTiO3的VB中的光生空穴轉(zhuǎn)移到Cu2WS4的VB中,將S2-/SO32-氧化為S2O32-物種。此外,圖7b顯示了TC/RhB的降解機(jī)理。Cu2WS4的CB上的光生電子傳遞到NiTiO3的CB上,進(jìn)一步將O2還原為·O2-。這是因?yàn)镹iTiO3的CB電位(-0.06 eV)比O2/·O2-電位(-0.046 eV vs NHE)更負(fù)。同時(shí),與·OH/H2O(2.27 eV)和·OH/OH-(2.32 eV)的標(biāo)準(zhǔn)還原電位相比,Cu2WS4的VB電位(1.71 eV)還不夠正,表明Cu2WS4中積累的空穴不能氧化H2O/OH-生成·OH。因此,TC/RhB的光降解主要?dú)w因于空穴和·O2-自由基的作用。

綜上所述,本文采用簡(jiǎn)單的靜電紡絲/煅燒工藝和水熱法制備了Cu2WS4/NiTiO3復(fù)合材料。所得到的二元復(fù)合材料具有更強(qiáng)的可見光吸收、更高的比表面積和更有效的光生載流子分離,這使得這些復(fù)合材料具有優(yōu)異的、持久的光催化性能。同時(shí),對(duì)影響TC降解的因素(溶液pH值、催化劑用量和TC濃度)進(jìn)行了研究,得出TC降解的最佳pH值為6。此外,Cu2WS4/NiTiO3在可見光照射下的催化機(jī)理符合“II型”機(jī)理體系。這項(xiàng)工作為制備其他具有增強(qiáng)可見光催化性能的NiTiO3基催化劑提供了寶貴的經(jīng)驗(yàn)。


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